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惠和品牌納米硅溶膠廠家金屬半導體拋光用免費試樣

更新時間:2025-03-26 15:13:21 [舉報]
技術指標 產品型號 SD-10055
外觀 乳白
密度(25℃,g/cm3) 1.430-1.453
波美度(25℃,Be)
固含wt/% 54-56
氧化鈉wt/% ≤0.5
PH 9.0-10.5
運動粘度(25℃,mm2s) ≤7
平均粒徑(Ds,nm) 90-110
電導率(mS/cm) <5

納米硅溶膠作為拋光劑,在拋光過程中發(fā)揮著關鍵作用。其納米級的二氧化硅顆粒能夠有效去除被拋光表面的微小凸起和劃痕,提高表面的光滑度和平整度。這種拋光效果在半導體器件、光學器件以及精密機械零件的制造中尤為重要。
一、應用領域
半導體產業(yè):在半導體器件的制造過程中,化學機械拋光(CMP)是確保硅片表面高度平坦化的關鍵技術。納米硅溶膠作為CMP拋光液的主要成分之一,被廣泛應用于硅片的粗拋、中拋和精拋階段。特別是在精拋階段,納米硅溶膠能夠顯著降低硅片表面的顆粒缺陷,為后續(xù)的離子注入等工序提供的襯底材料。光學器件制造:在光學器件的制造中,納米硅溶膠也被用作拋光劑。其高純度和均勻的粒度分布能夠確保光學器件表面的和平整度,提高光學性能。精密機械零件:對于需要和平整度的精密機械零件,納米硅溶膠同樣是一種有效的拋光劑。其的拋光效果和穩(wěn)定性能夠滿足這些零件對表面質量的高要求。
二、拋光優(yōu)勢
性:納米硅溶膠的均勻覆蓋性和可調節(jié)粒徑使得拋光過程更加。通過選擇合適的粒徑和拋光條件,可以針對不同的材料和要求進行優(yōu)化拋光。保護性:在拋光過程中,納米硅溶膠不與被拋光材料發(fā)生化學反應,避免了表面損傷。同時,拋光后能夠形成均勻的保護膜,增強材料的耐候性和穩(wěn)定性。環(huán)保性:相比傳統(tǒng)的拋光材料,納米硅溶膠具有更好的環(huán)保性能。其制備過程中不產生有害物質,且可以回收利用,降低了對環(huán)境的污染。
三、具體應用案例
例如,在光纖連接器和光纖陣列的拋光中,使用添加了納米硅溶膠的水性納米拋光膜涂布劑制成的拋光膜進行拋光后,被拋光器件的表面將變得很光滑、呈鏡面,且無任何凹坑、劃傷或異物黏著等不良現(xiàn)象。這充分展示了納米硅溶膠在拋光中的性能和廣泛應用前景。
硅溶膠是納米拋光液的重要組成部分,其粒徑、粒子形態(tài)、粒徑分布、濃度、pH和雜質含量會直接影響拋光材料表面去除率和表面粗糙度或波紋度之間的平衡,進而影響材料表面的拋光質量。我公司與相關行業(yè)合作密切,致力于不斷推出和優(yōu)化拋光液系列產品,為客戶提供的服務和解決方案。
標簽:納米硅溶膠水性硅溶膠
廣東惠和硅制品有限公司
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