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有些真空鍍膜機真空計的讀數(shù),與氣體種類有關,比如熱偶計,電離真空計。選用適當?shù)臍怏w或液體做示漏物質,這些真空計便成了探測器,一般鍍膜機上都有真空計,使用起來很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計反應較慢,觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質有氦,氬,酒精等。
真空系統(tǒng)是鍍膜機達到工藝條件的基本設備,其真空度達不到或者達到真空度速度慢,都有可能是由于存在漏點所致,所以真空卷繞鍍膜機設備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質檢漏儀來查漏,主要用負壓法檢漏即將氦質譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統(tǒng),在可能泄漏地方噴氦檢漏。
如何處理真空鍍膜的灰塵呢
1、設備使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、設備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題。
3、真空鍍膜一段時間后,真空室內壁要清潔處理。
4、真空鍍膜清洗襯底材料,要做到嚴格合乎工藝要求。
5、真空鍍膜適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度,有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。
6、工作人員在操作時需要戴手套、腳套等,要有的服裝。
由于灰塵對鍍膜效果會產(chǎn)生比較大的影響,因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵,應該在使用中注意以上幾點來盡量避免,除此也要注意經(jīng)常清洗,避免灰塵越積越多。
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