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廣州回收日本CBI光學(xué)真空鍍膜機(jī)

更新時(shí)間1:2025-09-04 信息編號:f72oa440o1579c 舉報(bào)維權(quán)
廣州回收日本CBI光學(xué)真空鍍膜機(jī)
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供應(yīng)商 港恒(深圳)再生資源回收有限公司 店鋪
認(rèn)證
報(bào)價(jià) 人民幣 1988.00
關(guān)鍵詞 回收真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)線設(shè)備
所在地 廣東深圳市龍華新區(qū)民治街道白石龍
周明權(quán)
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13年

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)線設(shè)備主要包括以下幾個(gè)部分:

1. 真空鍍膜機(jī):用于在真空環(huán)境下進(jìn)行金屬或其他材料的薄膜鍍覆。真空鍍膜機(jī)通常包括真空腔體、蒸發(fā)源、離子源、控制系統(tǒng)等組成部分。

2. 前處理設(shè)備:用于對待鍍件進(jìn)行表面處理,包括清洗、拋光、去油等工藝。常見的前處理設(shè)備有超聲波清洗機(jī)、噴洗機(jī)、研磨機(jī)等。

3. 負(fù)載與卸載系統(tǒng):用于將待鍍件從裝載區(qū)送入真空鍍膜機(jī),并將完成鍍膜的產(chǎn)品從卸載區(qū)取出。負(fù)載與卸載系統(tǒng)通常包括機(jī)械手、傳送帶、夾具等。

4. 控制系統(tǒng):用于對整個(gè)生產(chǎn)線進(jìn)行控制和監(jiān)控,包括溫度控制、真空度控制、膜層厚度控制等。控制系統(tǒng)通常包括PLC控制器、觸摸屏界面等。

5. 輔助設(shè)備:包括真空泵、冷卻水系統(tǒng)、氣體供應(yīng)系統(tǒng)等,用于提供所需的真空環(huán)境和工藝氣體。

以上是真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)線設(shè)備的主要組成部分,實(shí)際生產(chǎn)線的配置還會(huì)根據(jù)具體的產(chǎn)品和生產(chǎn)要求進(jìn)行調(diào)整和優(yōu)化。

真空鍍膜機(jī)是一種利用真空技術(shù)對物體表面進(jìn)行鍍膜的設(shè)備。它通過在真空環(huán)境中蒸發(fā)或?yàn)R射金屬或其他材料,使其沉積在待處理物體的表面,形成一層薄膜。真空鍍膜機(jī)可以用于多種應(yīng)用,例如改善物體的光學(xué)性能、增強(qiáng)物體的耐腐蝕性、改變物體的外觀等。

真空鍍膜機(jī)具有高真空度、高沉積速率、均勻性好等優(yōu)點(diǎn),可以在不同材料和形狀的物體上進(jìn)行鍍膜。它在電子、光學(xué)、材料等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用,如光學(xué)鍍膜、金屬鍍膜、硬質(zhì)涂層等。

真空鍍膜機(jī)主要由真空室、加熱系統(tǒng)、薄膜材料源、蒸發(fā)或?yàn)R射系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等部分組成。在操作過程中,將待鍍物放置在真空室中,并將真空室抽成高真空狀態(tài)。然后,加熱系統(tǒng)加熱材料,使其蒸發(fā)或?yàn)R射成薄膜,并在材料表面形成均勻的涂層??刂葡到y(tǒng)可對加熱溫度、真空度等參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)和監(jiān)控,以薄膜的質(zhì)量和厚度。

真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、光電、航空航天等領(lǐng)域。它可以制備多種功能性薄膜,如反射膜、透明導(dǎo)電膜、防反射膜等,用于改善材料的光學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)性能。

在蒸發(fā)過程中,部分蒸汽會(huì)沉積在冷凝器上,形成固態(tài)材料,也可以通過回收裝置進(jìn)行回收再利用。同時(shí),為了保持真空環(huán)境,需要使用泵組進(jìn)行持續(xù)抽氣。

臥式電阻回收蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)設(shè)備廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、材料等領(lǐng)域,用于制備透明導(dǎo)電膜、光學(xué)薄膜、防反射膜等。它具有操作簡便、加工、薄膜質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn),是現(xiàn)代工業(yè)中不可或缺的設(shè)備之一。

卷繞式真空鍍膜機(jī)設(shè)備是一種用于在卷繞材料表面進(jìn)行薄膜鍍覆的設(shè)備。它通常由以下幾個(gè)主要組成部分構(gòu)成:

1. 卷繞系統(tǒng):用于將卷繞材料(如卷繞紙、塑料薄膜等)從卷軸上展開,并將鍍膜后的材料重新卷繞到卷軸上。

2. 真空腔體:提供一個(gè)真空環(huán)境,用于進(jìn)行薄膜鍍膜過程。真空腔體通常由不銹鋼材料制成,并具有密封性能,以確保在真空操作期間不會(huì)泄漏。

3. 蒸發(fā)源:用于蒸發(fā)鍍膜材料,產(chǎn)生蒸汽或離子,以在卷繞材料表面形成薄膜。常見的蒸發(fā)源有電子束蒸發(fā)源和磁控濺射源等。

4. 控制系統(tǒng):用于控制整個(gè)設(shè)備的運(yùn)行,包括真空度、蒸發(fā)源功率、卷繞速度等參數(shù)的調(diào)節(jié)和監(jiān)控。

所屬分類:設(shè)備回收/工廠設(shè)備回收

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